純水EDI電気集塵装置用電子機器

半導体、チップ、LCDパネルを製造するエレクトロニクス工場では、ウエハやチップの洗浄に超純水が不可欠です。水中の微量の不純物イオンであっても、短絡や酸化層の問題を引き起こし、歩留まりに直接影響を与える可能性があります。ジンポー社の純水用電子機器 Edi 電気集塵装置は、比抵抗が 15 ～ 18.2 MΩ・cm で安定し、ナトリウム含有量が 0.1 μg/L 未満で、細菌性エンドトキシンがほとんどなく、エレクトロニクス産業の厳しい要件を完全に満たす、特に信頼性の高い水を生成します。

純水EDI電気集塵装置用電子機器は、従来のRO逆浸透システムとシームレスに統合し、イオン濃度を極めて低いレベルまで低減し、有機物や微粒子を制御し、その後の処理プロセスの強固な基盤を築きます。さらに、通電すると水が分解して H⁺ と OH⁻ を放出し、化学試薬を必要とせずに自動的に樹脂を「充電」して再生し、最大 18.2 MΩ・cm の純度の超純水を生成します。

製品パラメータ

従来の混合床装置と比較して、その利点は顕著です。再生のために酸やアルカリを購入する必要がなくなり、大幅なコストが節約され、試薬の保管や有害廃棄物の処分に関する懸念がなくなりました。運転コストは非常に低く、水回収率は 90% ～ 95% であり、水の無駄がほとんどありません。操作も簡単で完全に自動化されているため、手動による複雑な再生プロセスの必要性がなくなり、労働集約度が大幅に軽減されます。

純水 EDI 電気集塵装置用電子機器は、モジュール式設計、コンパクトなサイズ、最小限の工場スペース要件を備えています。導入後は水道と電気を接続すればすぐに使用できるため、95%以上のシステム稼働率を達成し、ダウンタイムを最小限に抑えることができます。製品の歩留まりの向上、運用コストの削減、または環境要件を満たすことを目指している場合でも、この EDI 電気集塵機はエレクトロニクス工場にとって優れた選択肢です。