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半導体産業における廃水再利用装置
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半導体産業における廃水再利用装置

半導体産業の生産では、高純度水の需要と廃水処理圧力が共存します。無錫京波環境保護技術有限公司は、中国に根ざした環境保護専門企業として、「カスケード処理、品質回復、段階的浄化、究極の固化」という基本原理に基づいて、半導体産業の廃水再利用装置のために特別に構築され、企業に効率的で環境に優しい水資源ソリューションを提供しています。

半導体用水処理装置の信頼できるサプライヤーとして、当社は半導体業界の廃水再利用装置に高度に統合された多段階処理技術を搭載し、「前処理+膜分離+蒸発結晶化」という厳しいプロセスバリアを構築します。前処理段階では、廃水中の浮遊固体、コロイド、可溶性有機物質が物理的濾過、生化学的分解、化学的調整によって効果的に除去され、その後の膜システムの目詰まりやスケーリングを防ぐために pH 値が調整され、コア処理リンクに適切な流入水を提供し、半導体産業における廃水コンポーネントの複雑な処理要件を満たします。

工業用水処理の専門メーカーとして、当社は装置の膜分離コアリンクを非常に重視しています。孔径0.01~0.1μmの膜による限外濾過/精密濾過を採用し、細菌、ウイルス、高分子有機物を100%保持し、逆浸透システムの精密セキュリティフィルターとして使用します。逆浸透を核として、室温で高圧半透膜を使用して効率的に脱塩し、流入量の70~80%を占めるほぼ純水の高品質再利用水を生産し、半導体製造の冷却、洗浄、その他の水需要に直接対応できます。さらに、当社の先進的な工場では各設備の安定した性能が保証されているため、一部の処理水はハイエンドの製造プロセス用水としても使用でき、設備のスケールや腐食を軽減し、製品の品質を向上させることができます。

製品パラメータ

参考項目

流入水質設計

排水水質の保証(再利用)

システムパフォーマンス目標

COD(mg/L)

≤60

≤30

高度な有機物除去

TDS (mg/L)

≤1500

≤200

高度な脱塩

硬度(mg/L)

≤400

≤100

軟化

導電率 (μS/cm)

≤2500

≤400

高度な脱塩


製品の利点

半導体産業の厳しい環境要件を満たすために、半導体産業の廃棄物再利用装置には、究極の保証として熱技術が装備されています。機械式蒸気再圧縮蒸発器は、逆浸透によって生成された濃縮水をさらに濃縮します。蒸発結晶化技術により、溶解した塩を固体の塩残留物として沈殿させることができます。水は完全に蒸発し、凝縮して回収されます。高度な固化技術と組み合わせることで、液体排出ゼロを実現し、汚染物質の排出を排除し、企業が最も厳しい環境保護規制を遵守できるように支援し、罰金や生産制限のリスクを回避し、ESG パフォーマンスを向上させます。


製品の特徴

さらに、半導体業界の廃水再利用装置は高度に自動化およびインテリジェント化されており、高度な PLC/PAC および SCADA システムによって制御され、完全な自動操作、インテリジェントな投与、故障診断、およびリモート監視を実現し、水質と水量の変化に適応できます。モジュール式でスケーラブルな設計、企業の実際のニーズに応じた柔軟な構成と拡張。

半導体業界の廃水再利用装置は、半導体企業に新しい供給源と支出の削減を提供し、新鮮な工業用水の 90% 以上を置き換え、水資源コストを削減し、明確な投資収益率をもたらします。また、貴重な塩を結晶塩として回収して付加価値を生み出すと同時に、水不足の時期に水資源の競争上の優位性を高め、サプライチェーンの安全性を確保することもできます。


Wastewater Reuse Equipment In The Semiconductor Industry


ホットタグ: 半導体業界の廃水再利用装置中国、サプライヤー、メーカー、工場
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